カテゴリ：成膜・蒸着・膜厚測定

機器メーカー	EIKO ENGINEERING
製品名	ES-350W
設置年	2009
キャンパス	常盤キャンパス
設置場所	常盤分室先端研究棟CR104-B
管理部局	常盤分室 電話：0836-85-9951 管理者にメール

仕様

本スパッタ装置のチャンバーは、ロードロック室1室とスパッタ室2室で構成され、各スパッタ室には5種類のターゲットを装着され、真空を破ることなく、ターゲットを切り替えて薄膜形成が可能です。装置はUHV(超高真空)対応であり、マグネトロンスパッタ法にて薄膜形成が可能です。

●ターゲット：5元×2チャンバー＝10元スパッタ可
●到達圧力：3×10-7 Pa
●電源：RF 500W，DC 1kW
●基板寸法：～φ2インチ

利用形態

学内, 学外, 自己測定,

利用料金

・学内：3,000円/日
・アカデミック（学外）：3,000円/日
・学外一般： 6,000円/日
※アドバイザーによる機器の利用代行や操作補助が発生する場合，学内・アカデミック機関は1回3,000円，学外の企業等は6,000円を加算
（2025.6.1現在）

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備考