マスクレス露光装置
カテゴリ:半導体製造関連装置

機器メーカー | ネオアーク |
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製品名 | DDB-701-DL |
設置年 | 2019 |
キャンパス | 常盤キャンパス |
設置場所 | 常盤分室先端研究棟CR104-C |
管理部局 |
常盤分室 電話:0836-85-9951 管理者にメール |
仕様
2種の対物レンズを保有しており、2倍を選択することにより厚膜レジストの露光も可能です。
●露光用光源:360nmLED
●DMD解像度:1280×800
●露光エリア:25mm×25mm
●最小描画線幅:3µm(10倍レンズ)、15µm(2倍レンズ)
利用形態
学内, 学外, 自己測定, 依頼測定,
利用料金
・学内:1,000円/時間,5,000/日
・アカデミック(学外):1,000円/時間,5,000/日
・学外一般: 2,000円/時間,10,000/日
(2024.6.19現在)
詳細・予約ページ(大学連携研究設備ネットワークへ)
依頼測定:お問い合わせください。
備考
※2024.9/1~新規利用者の受付を停止します