山口大学RFMC リサーチファシリティマネジメントセンター

本学への寄付

マスクレス露光装置

カテゴリ:半導体製造関連装置

機器メーカー ネオアーク
製品名 DDB-701-DL
設置年 2019
キャンパス 常盤キャンパス
設置場所 常盤分室先端研究棟CR104-C
管理部局 常盤分室
電話:0836-85-9951
管理者にメール

仕様

2種の対物レンズを保有しており、2倍を選択することにより厚膜レジストの露光も可能です。

●露光用光源:360nmLED
●DMD解像度:1280×800
●露光エリア:25mm×25mm
●最小描画線幅:3µm(10倍レンズ)、15µm(2倍レンズ)

利用形態

学内, 学外, 自己測定, 依頼測定,

利用料金

・学内:1,000円/時間,5,000/日
・アカデミック(学外):1,000円/時間,5,000/日
・学外一般: 2,000円/時間,10,000/日
(2024.6.19現在)

詳細・予約ページ(大学連携研究設備ネットワークへ)

相互利用予約ページ

依頼測定:お問い合わせください。

詳細ページ

備考

※2024.9/1~新規利用者の受付を停止します

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